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级别：普通会员 注册时间：2009-03-16 最后登录时间：2010-05-28 |
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| 、 紫外光清洗的特点： 1、 是一种“干洗”方式，可在空气中进行并且在清洗后不必进行干燥。 2、 可彻底清除物体表面的碳和有机污染物。 3、 无溶剂挥发及废弃溶剂的处理问题。 4、 保证产品的高可靠性和高成品率。 5、 产品表面清洗处理的均匀度一致。 二、准分子紫外光清洗比用传统汞灯紫外光具有显著优势: 1、高效快速清洗有为高强度紫外光子发生器发射的波长为172 nm, 窄谱 (10 nm)的单色真空紫外光, 能实现在传统紫外光源下根本不能产生的化学反应且具有极快的反应速率，清洗速率比用低压汞灯快5倍以上。其高反应性质对玻璃的清洗效率最佳, 是目前制程的主流。 2、低温加工过程由于不产生红外谱线, 且因光强高而加工时间极短, 所以对被加工对象几乎不产生加热效应, 是一种冷加工过程. 3、瞬间开启和熄灭可根据需要发射所需光能, 且能随时瞬间开启熄灭, 不需要用快门. 4、节能环保没有自吸收现象, 电光转化效率高达40%，因而产生很高的光强只需消耗很低的电能，且没有使用汞灯所带来的废旧回收处理问题。 5、安装角度灵活方便有为光子发生器可根据需要加工不同空间角度的被加工物, 很容易整合进入现有的生产线, 安装简便, 替换性好. 三、 光清洗技术的应用领域：主要在液晶显示器件、半导体硅晶片、集成电路、高精度印制电路板、光学器件、石英晶体、密封技术、带氧化膜的金属材料等生产过程中采用光清洗方法最为合适。主要材料：ITO玻璃、光学玻璃、铬板、掩膜板、抛光石英晶体、硅晶片和 带有氧化膜的金属等进行精密清洗处理。可以去除污垢：有机性污垢、人体皮脂、化妆品油脂、树脂添加剂及聚酰亚胺、石蜡、松香、润滑油、残余的光刻胶等。 |
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